與EDI淡水室隔板中填充的離子交換樹(shù)脂不同，EDI淡水室隔板中填充的離子交換樹(shù)脂，可以在不飽和的情況下自動(dòng)獲得再生，不需要化學(xué)再生，從而取代傳統的混床離子交換樹(shù)脂來(lái)制造純凈水或超純凈水。此外，EDI技術(shù)還有許多優(yōu)點(diǎn)，如不間斷出水，再生過(guò)程不需要酸堿試劑，并且可以實(shí)現無(wú)人看管的自動(dòng)操作。

　　一、主要用途的EDI超純水設備：

　　1.用純水、電泳漆噴涂超聲波清洗，用純水設備清洗建材產(chǎn)品表面。

　　清洗用超純水制取設備，如太陽(yáng)能光伏、微電子行業(yè)、半導體芯片切割制造、半導體芯片、觸摸屏、顯像管等高科技。

　　2.技術(shù)微觀(guān)產(chǎn)品等。

　　3.玻璃鍍膜用電鍍超純水(鍍金、五金電鍍、鍍銀、鍍絡(luò )、塑料電鍍、鍍鉻、化學(xué)鍍、鍍鋅等)。

　　4.用純水或超純水進(jìn)行其他要求的表面處理。

　　二、EDI超純水設備使用注意事項有哪些：

　　1.在連接到工業(yè)超純水設備的EDI模塊之前，需要用過(guò)濾過(guò)的水沖洗進(jìn)入水管，否則管道碎片雜物會(huì )因未清洗而進(jìn)入模塊而造成不可挽回的損失。

　　2.為了避免水錘造成的損壞，對模塊的壓力緩慢增加，時(shí)間控制在一到兩分鐘。記?。翰灰屇K的壓力超過(guò)規定的范圍。

　　3.確保各種水的流量充足，如淡水流量、濃水排放流量計、濃水循環(huán)流量等。并保持聯(lián)動(dòng)裝置安全正常運行。

　　4.檢查模塊的進(jìn)水水質(zhì)，例如余氯或其它氧化劑。進(jìn)水水質(zhì)應符合進(jìn)水指標。

　　5.如果進(jìn)水的硬度大于0.5pm，或者如果其他進(jìn)水指標不符合要求，模塊損壞。此時(shí)，應定期用酸清洗或軟化濃水管。

　　6.如果EDI超純水設備有鹽泵系統，必須仔細檢查和嚴格要求鹽的成分和質(zhì)量。您可以使用鹽指標參考用戶(hù)手冊。如果長(cháng)時(shí)間使用不合格的鹽，會(huì )損壞膜。

　　為了滿(mǎn)足現代工業(yè)和環(huán)保的需要，當純水設備中的EDI出現問(wèn)題和損壞時(shí)，必然會(huì )影響到企業(yè)的正常生產(chǎn)，增加公司的運營(yíng)成本，因為超純水設備已經(jīng)取代了傳統的離子交換水處理技術(shù)。

　　總結超純水EDI設備損壞原因；

　　1.長(cháng)期以來(lái)，EDI膜塊在大電流下運行，低于額定流量，極板側積聚的熱量無(wú)法有效釋放，導致EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)初次發(fā)熱變形，EDI濃縮水壓差增加，水質(zhì)和水量下降，嚴重碳化漏水。

　　2.EDI膜塊長(cháng)時(shí)間未清洗和維護。EDI膜片和通道結垢，進(jìn)出水壓差增大，導致產(chǎn)水質(zhì)量下降，電流無(wú)法調節，電壓升高。

　　3.過(guò)濾系統對余氯等氧化劑的控制不當，進(jìn)入過(guò)量的EDI氧化劑，使EDI樹(shù)脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，降低水量。

　　4.使用不當的清潔和消毒，直接導致EDI樹(shù)脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，導致產(chǎn)水水質(zhì)和水量全面下降。

　　5.當EDI系統手動(dòng)運行時(shí)，在缺水狀態(tài)下加電，直接導致膜片和樹(shù)脂的發(fā)熱和碳化，清潔無(wú)效，無(wú)法使用。

　　6.EDI進(jìn)水前沒(méi)有安全過(guò)濾器，或者管道和水箱在安裝過(guò)程中沒(méi)有完全清洗，導致EDI通道異物堵塞，進(jìn)出水壓差增加，導致產(chǎn)水量嚴重下降，清洗無(wú)效。

　　7.超過(guò)額定值或人為誤操作的電流電壓。